ഉൽപ്പന്നങ്ങൾ

അസന്തുലിതമായ മാഗ്നെട്രോൺ (UBM) സ്‌പട്ടറിംഗ് രീതി ഉപയോഗിച്ച് രൂപപ്പെട്ട നൈട്രജൻ സാന്ദ്രത 10.9% ൽ താഴെയുള്ള ഒരു നൈട്രജൻ-ഡോപ്ഡ് നാനോകാർബൺ ഫിലിം ഇലക്‌ട്രോഡ് ഞങ്ങൾ പഠിച്ചു.നൈട്രജൻ-ഡോപ്ഡ് യുബിഎം സ്പട്ടറിംഗ് നാനോകാർബൺ ഫിലിമിലെ (എൻ-യുബിഎം ഫിലിം) sp(3) ഉള്ളടക്കം നൈട്രജൻ സാന്ദ്രത കൂടുന്നതിനനുസരിച്ച് ചെറുതായി വർദ്ധിക്കുന്നു.നൈട്രജൻ സാന്ദ്രത കൂടുന്നതിനനുസരിച്ച് നൈട്രജൻ അടങ്ങിയ ഗ്രാഫൈറ്റ് പോലുള്ള ബോണ്ടിംഗ് കുറയുകയും പിരിഡിൻ പോലുള്ള ബോണ്ടിംഗ് വർദ്ധിക്കുകയും ചെയ്യുന്നു.N-UBM ഫിലിമിന് ശരാശരി 0.1 മുതൽ 0.3 nm വരെ പരുഷതയുള്ള വളരെ മിനുസമാർന്ന ഉപരിതലമുണ്ട്, ഇത് നൈട്രജൻ സാന്ദ്രതയിൽ നിന്ന് ഏതാണ്ട് സ്വതന്ത്രമാണ്.N-UBM ഫിലിം ഇലക്‌ട്രോഡ് sp(3) ഉള്ളടക്കത്തിലെ നേരിയ വർദ്ധന കാരണം പ്യുവർ-UBM ഫിലിം ഇലക്‌ട്രോഡിനേക്കാൾ (3.9 V) വിശാലമായ പൊട്ടൻഷ്യൽ വിൻഡോ (4.1 V) കാണിക്കുന്നു.നൈട്രജൻ സാന്ദ്രത വർദ്ധിക്കുന്നതിനനുസരിച്ച് ഇലക്ട്രോകാറ്റലിറ്റിക് പ്രവർത്തനം വർദ്ധിച്ചു, നൈട്രജന്റെ സാന്ദ്രത ഏകദേശം 10.9 at% ആയിരിക്കുമ്പോൾ ഇലക്ട്രോ ആക്ടിവിറ്റി പരമാവധി ആണെന്ന് നിർദ്ദേശിക്കുന്നു, ഇത് Fe(CN)6(4-) ന്റെ ഏറ്റവും ഉയർന്ന വേർതിരിവിലൂടെ സ്ഥിരീകരിക്കപ്പെടുന്നു.N-UBM ഫിലിം ഇലക്‌ട്രോഡിലെ ഹൈഡ്രജൻ പെറോക്സൈഡ് (H2O2) റിഡക്ഷൻ പൊട്ടൻഷ്യലുകൾ ഏകദേശം 0.1 V മാറി, H2O2 ന്റെ പീക്ക് കറന്റ് ഏകദേശം 4 മടങ്ങ് വർദ്ധിച്ചു.